Atomic Layer Deposition von Siliciumdioxid auf nanoskaligem Titandioxid mit Siliciumtetrachlorid als Precursor: Ein kontinuierliches, ... Verfahren (Berichte aus der Chemie)

Name: Atomic Layer Deposition von Siliciumdioxid auf nanoskaligem Titandioxid mit Siliciumtetrachlorid als Precursor: Ein kontinuierliches, ... Verfahren (Berichte aus der Chemie)
Brand: Shaker
Availability: OutOfStock
Rating: 5 (1 reviews)

By Ralf Bergsträßer

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Product details

Binding:: Paperback
Edition:: 1
Number of Pages:: 208
Publication Date:: 2007-06-01
Publisher:: Shaker
Languages:: Published: German, Original: German
ISBN10:: 3832262938
Weight:: 300 g

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